Установка вакуумного напыления ВН-2000 (-08)

Цена:По запросу

Установка вакуумного напыления ВН-2000 (-08), как и ее аналог предыдущего ВН-2000, предназначена для получения вакуума в рабочем объеме, нанесения пленок в вакууме из проводящих, полупроводниковых и диэлектрических материалов методом магнетронного, резистивного и электронно - лучевогого распыления, а также для травления материалов в плазме (в зависимости от комплекта поставки).

Конструктивные особенности

Установка может быть применена для исследования в области физики, химии, биологии, медицине, материаловедении, микроэлектроники и других отраслях, а также отработки отдельных технологических операций по напылению.

Установки могут эксплуатироваться при температуре окружающего воздуха от 10 °С до 35 °С, относительной влажности не более 80 % и атмосферном давлении от 84 кПа до 106,7 кПа.

Электрическое питание установки должно соответствовать:

Напряжение, В 380/220;
Частота, Гц 50.
Качество электрической энергии по ГОСТ 13109.
Потребляемая мощность установки должна быть не более 3кВА

Автоматическая система управления вакуумной частью ВН-2000 (-08), возможность визуального контроля электрических параметров блоков на цифровом табло, новая элементная база и возможность использования большего числа дополнительных аксессуаров позволяет значительно облегчить работу пользователя и расширить функциональные возможности установки.

Устройство и принцип работы

Установка выполнена в виде двух стоек - электрической и вакуумной. Стойки располагаются рядом и соединяются между собой питающими, силовыми и сигнальными кабелями.

В электрической стойке размещены:

блок распределительный;
блок питания высоковольтный;
блок трансформаторов;
блок управления;
пульт управления;
блок питания турбомолекулярного насоса БПТ-1000.

В вакуумной стойке расположена вакуумная система. Кроме вакуумной системы в данной стойке расположены:

рабочий объем
система напуска газа в рабочий объем;
система водяного охлаждения турбомолекулярного насоса.

В рабочий объем устанавливаются устройство для термического испарения и устройство осаждения пленок.

Технические характеристики
Установка обеспечивает предельное остаточное давление, Па	5х10^-4
Нагреватель в устройстве напыления обеспечивает температуру, не менее, °C	300
Время нагрева, не более, мин	30
Напряжение на выходе высоковольтного выпрямителя (без нагрузки), кВ	0,5-4
Предельное отклонение верхнего значения, кВ	0,3
Напряжение блока питания магнетрона постоянного тока (без нагрузки), не более, кВ	1
Максимальный ток блока питания магнетрона постоянного тока, мА	300
Максимальный ионный ток устройства ионного травления, мА	100
Установка обеспечивает откачку рабочей камеры с атмосферного давления до давления 2х10^-3 Па за время, не более, мин	15
Ток пучка электронного испарителя, мА	0-200
Ток накала электронно-лучевого испарителя, А	2-10
Ток источника резистивного испарителя 1, А	5-200
Ток источника резистивного испарителя 2, А	3-50
Габариты стойки аналитической, мм	470х540х1600
Габариты стойки электрической, мм	610х630х1670
Масса установки, кг	350

Заказать Установка вакуумного напыления ВН-2000 (-08) в Москве можно по телефону +7(495)182-77-48 или Email info@bronic.ru. Наличие, сроки доставки и актуальную цену Вам сообщат при звонке или по запросу наши менеджеры.

Похожее оборудование